Inscatoli il magnetron di Mezzo frequenza del metallo dell'oro che farfuglia la macchina di rivestimento/MF che farfuglia il sistema
Il magnetron che farfuglia il rivestimento di vuoto è un tipo di menthod del trattamento di superficie di placcatura dello ione di PVD. Può essere usato per la produzione dei film di conduzione o non di conduzione, su molti tipi materiali: metalli, vetro, ceramico, di plastica, lega del metallo. Il concetto di deposito farfugliare: il materiale di rivestimento (obiettivo, anche nominato catodo) ed i pezzi da lavorare (substrati, anche chiamati anodo) sono disposti nella camera di vuoto e nella pressione è ridotto. Farfugliare è iniziato disponendo l'obiettivo nell'ambito di una tensione differintial ed introducendo il gas dell'argon che forma gli ioni dell'argon (scarico di incandescenza). Gli ioni dell'argon accelerano verso l'obiettivo trattato e spostano gli atomi dell'obiettivo. Questi atomi farfugliare poi sono condensati sul substrato e formano lo strato molto sottile ed alto dell'uniformità. I vari colori possono essere raggiunti presentando i gas reattivi come, l'azoto, il oxgen, o l'acetilene nei gass di farfugliare durante il processo di rivestimento.
Magnetron che farfuglia i modelli: CC che farfuglia, MF che farfuglia, farfugliare di rf
Che cosa il MF sta farfugliando?
Rispetto a CC ed alla rf che farfugliano, farfugliare di Mezzo frequenza si è trasformato in in un film sottile principale che farfuglia la tecnica per fabbricazione in serie di rivestimento, specialmente per il deposito del film delle emulsioni dielettriche e non conduttive sulle superfici quali i rivestimenti ottici, i pannelli solari, gli strati multipli, il film ecc. del materiale composito.
Sta sostituendo farfugliare di rf dovuto ha funzionato con il chilociclo piuttosto che il megahertz per un tasso di deposito molto più veloce ed anche può evitare l'avvelenamento dell'obiettivo durante il deposito composto del film sottile come CC.
Il MF che farfuglia gli obiettivi è esistito sempre con gli due-insiemi. Due catodi sono utilizzati con una corrente di CA commutata avanti e indietro fra loro quale puliscono la superficie dell'obiettivo con ogni inversione per ridurre l'accumulazione della tassa sui dielettrici che quello conduce all'effetto ad arco che può fuoriuscire le goccioline nel plasma ed impedire la crescita di film sottile uniforme--- quale è che cosa abbiamo chiamato Target Poisoning.
MF che farfuglia prestazione di sistema
1. ultima pressione di vuoto: migliori che i torr 5.0×10-6.
2. pressione di funzionamento di vuoto: Torr 1.0×10-4.
3. tempo di Pumpingdown: da 1 bancomat a 1.0×10-4 Torr≤ 3 minuti (temperatura ambiente, asciutta, pulisce e svuota la camera)
4. metallizzare materiale (che farfuglia + evaporazione dell'arco): Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr, latta, tic, TiAlN, CrN, CrC, ecc.
5. modello di funzionamento: Automaticamente /Semi-Auto/ pieno manualmente
MF che farfuglia la struttura di sistema
La macchina di rivestimento di vuoto contiene il sistema di chiave completato elencato qui sotto:
1. camera di vuoto
2. sistema di pulsometro di Rouhging (pacchetto della pompa della protezione)
3. alto sistema di pulsometro (magneticamente pompa molecolare della sospensione)
4. sistema elettrico di esercizio e di controllo
5. sistema della funzione di Auxiliarry (sottosistema)
6. sistema di deposito: MF che farfuglia catodo, alimentazione elettrica di MF, fonte di ione diagonale dell'alimentazione elettrica per facoltativo
MF che farfuglia le specifiche del sistema RTSP1212-MF
MODELLO | RTSP1212-MF | ||||||
TECNOLOGIA | Magnetron di MF che farfuglia + placcatura dello ione | ||||||
MATERIALE | Acciaio inossidabile (S304) | ||||||
DIMENSIONE DELLA CAMERA | Φ1250*H1250mm | ||||||
TIPO DELLA CAMERA | Cilindro, verticale, 1 porta | ||||||
FARFUGLIARE SISTEMA | Esclusivamente progettazione per deposito nero sottile del film | ||||||
MATERIALE DI DEPOSITO | Alluminio, argento, rame, Chrome, acciaio inossidabile, Nichel |
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FONTE DI DEPOSITO | 2 insiemi farfugliare cilindrico che di MF mira + a 8 hanno diretto le fonti catodiche dell'arco | ||||||
GAS | MFC 4 modi, AR, N2, O2, C2H2 | ||||||
CONTROLLO | SpA (controllore logico programmabile) + | ||||||
SISTEMA DI POMPAGGIO | SV300B - 1 insieme (Leybold) | ||||||
WAU1001 - 1 mette (Leybold) | |||||||
D60T- 2sets (Leybold) | |||||||
Pompe molecolari di Turbo: 2* F-400/3500 | |||||||
PRETRATTAMENTO | Alimentazione elettrica diagonale: Chilowatt 1*36 | ||||||
SISTEMA DI SICUREZZA | Numerosi interruttori di sicurezza per proteggere gli operatori | ||||||
RAFFREDDAMENTO | Acqua fredda | ||||||
POTERE ELETTRICO | 480V/3 phases/60HZ (U.S.A. compiacente) | ||||||
460V/3 phases/50HZ (Asia compiacente) | |||||||
380V/3 phases/50HZ (EU-CE compiacente) | |||||||
ORMA | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
PESO TOTALE | 7,0 T | ||||||
ORMA | (L*W*H) 5000*4000 *4000 MILLIMETRO | ||||||
TEMPO DI CICLO | 30~40 minuti (secondo il materiale del substrato, la geometria del substrato e condizioni ambientali) |
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MASSIMO DI POTERE. | 155 CHILOWATT | ||||||
POTERE MEDIO |
75 CHILOWATT |
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