Caratteristiche dell'attrezzatura di rivestimento in ceramica PVD:
1. La camera a vuoto è una porta aperta verticale, 304 prodotti in acciaio inossidabile, diametro interno della camera a vuoto da φ1400mm-Φ2000mm;
2. Sistema del vuoto mediante pompa rotativa a palette, pompa Roots e pompe a diffusione dell'olio o costituzione di pompe molecolari;
3. Il sistema di rivestimento utilizza 1-2 magnetismo a frequenza intermedia per controllare la fonte di energia sputtering, ha 1-2 coppie di magnetismo non bilanciato per controllare il bersaglio e ha 14-40 sorgenti d'arco.
4. Fonte di alimentazione di polarizzazione a impulsi ad alta efficienza;
5. Il sistema di gassificazione utilizza il misuratore di portata massica gassosa di produzione nazionale o di importazione, il misuratore di controllo della quantità di flusso di gas (dimostrativo);
6. Il circuito elettrico dell'impianto a comando elettrico è sovraccarico, interrompe l'alimentazione idrica, spegne il dispositivo di allarme acusto-ottico;
7. Sistema di controllo (touch-screen + PLC), visualizzazione dei parametri dettagliati in tempo reale, controllo completamente automatico dell'intero processo produttivo e memoria automatica dei parametri tecnologici.
Attrezzatura per rivestimento PVD - Specifiche RTAC1618
| MODELLO | RTAC1618 | ||
| MATERIALE | Acciaio inossidabile (S304) | ||
| DIMENSIONE DELLA CAMERA | Φ1600*1800mm (H) | ||
| SISTEMA A POMPA | Pompa per vuoto a pistone rotante (meccanica) | ||
| Pompa per vuoto rotativa a palette (tenuta) | |||
| Pompa a vuoto Roots | |||
| Pompa di diffusione | |||
| TECNOLOGIA | Placcatura ionica (sorgenti multi-arco) | ||
| OBIETTIVI TIPICI | Cromo, Titanio, Zirconio, TiAl | ||
| GAS | Misuratori di portata massica del gas ( Ar, N2,) Argon, Azoto | ||
| CONTROLLO | PLC (controllore logico programmabile) | ||
| SISTEMA DI SICUREZZA | Numerosi interblocchi di sicurezza a protezione degli operatori e delle apparecchiature | ||
| RAFFREDDAMENTO | Riciclare l'acqua di raffreddamento | ||
| IL RISCALDAMENTO | Riscaldatore, fino a 300 ℃ | ||
| POTENZA MASSIMA. | 150 KW (circa) | ||
| CONSUMO MEDIO DI ENERGIA | 70 KW (circa) | ||
Attrezzatura per rivestimento in ceramica PVDutilizza la tecnologia di placcatura ionica per far evaporare i metalli solidi come il titanio, il cromo mediante una sorgente ad arco catodico e condensare i metalli ionizzati sulla superficie del prodotto per generare il film sottile Nano in un ambiente ad alto vuoto.Con il gas reattivo come: Azoto per generare vari colori.
Sono disponibili altre dimensioni della macchina personalizzate in base alle dimensioni del prodotto specificate e alla richiesta di capacità.
Modello | RTAC-1008 | RTAC-1012 | RTAC-1215 | RTAC-1416 | RTAC-1618 | ||||||
| Dimensioni interne della camera | 1000x800mm | 1000x1200mm | 1200x1500mm | 1400x1600mm | 1600x1600mm | ||||||
| Tipo di alimentazione | Alimentazione ad arco, alimentazione a filamento, alimentazione a polarizzazione a impulsi | ||||||||||
| Struttura della camera a vuoto | Struttura porta anteriore verticale, sistema di scarico aria posteriore e camera di raffreddamento ad acqua a doppio strato | ||||||||||
| Materiale della camera a vuoto | acciaio inossidabile 304/316L | ||||||||||
| Vuoto definitivo | 6,0x10-4Pa (scarico, pulizia, camera di asciugatura) | ||||||||||
| Velocità di pompaggio a vuoto | dall'atmosfera a 8,0*10-3Pa ≤15 minuti | ||||||||||
| Sistema di pompaggio a vuoto | Pompa di diffusione o pompa molecolare + Pompa Roots + Pompa meccanica + Pompa di mantenimento (il modello specifico può essere selezionato in base alle esigenze del cliente) | ||||||||||
| Sorgente ad arco | 6 unità o 8 unità | 8 unità o 10 unità | 10 unità o 12 unità | 14 unità o 16 unità | 16 unità o 18 unità | ||||||
| Alimentazione di polarizzazione | 20 KW/set | 20 KW/set | 30 KW/set | 40 KW/set | 50 KW/set | ||||||
| Modello di guida | Giri e rotazioni planetarie, regolazione della velocità a frequenza variabile (controllabile e regolabile) | ||||||||||
| Sistema di riscaldamento | Controllabile e regolabile da temperatura ambiente a 450°C (controllo della temperatura PID) | ||||||||||
| MFC | Sistema di controllo e visualizzazione del flusso del gas di processo a 3 o 4 percorsi, sistema di gassificazione automatica selettiva | ||||||||||
| Sistema di raffreddamento | Modalità di raffreddamento a circolazione d'acqua, torre dell'acqua di raffreddamento o refrigeratore d'acqua industriale o sistema di raffreddamento profondo.(Fornito dai clienti) | ||||||||||
| Modalità di controllo | Modalità di integrazione manuale/automatica, funzionamento touch screen, controllo PLC o computer | ||||||||||
| Potere totale | 30KW | 35KW | 45KW | 60KW | 75KW | ||||||
| Allarme e protezione | Allarme mancanza d'acqua, sovracorrente e sovratensione, circuito aperto e altre condizioni anomale di pompe, obiettivi e così via ed eseguire le misure di protezione pertinenti e la funzione di interblocco elettrico | ||||||||||
| Area attrezzature | L2.5m*L3.5m | L3m*L4m | L4m*L5m | L4,5 m*L6 m | L5m*L7m | ||||||
| Altri parametri tecnici | Pressione dell'acqua ≥0,2 MPa, temperatura dell'acqua ≤25°C, pressione dell'aria 0,5-0,8 MPa | ||||||||||
| Osservazioni | La configurazione specifica delle apparecchiature di rivestimento può essere progettata in base ai requisiti di processo dei prodotti di rivestimento | ||||||||||
Lime ceramiche Campioni di rivestimento PVD
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