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Marchio: | ROYAL |
Numero di modello: | RTSP1200 |
MOQ: | 1 set |
prezzo: | negoziabile |
Condizioni di pagamento: | L/C, D/A, D/P, T/T |
Capacità di approvvigionamento: | 6 insiemi al mese |
Modello di macchina: RT1200-FCEV
Tecnologia: con PECVD + PVD Magnetron Sputtering Depositing: Si, Cr, grafite bersagli, per generare campo magnetico chiuso sbilanciato per alta densità,film a base di carbonio ad alta uniformità ed eccellente resistenza alla corrosione.
Questo...RTcomunicazioneIl sistema di deposizione di sputtering magnetron ad alto vuoto è un modello su misura che si riferisce al modello Multi950-R&D che abbiamo costruito per l'Università di Shanghai.
È progettato con camera Octal, prestazioni flessibili e affidabili sono ampiamente utilizzati in varie applicazioni.Grafite, Al, Cr, Cu, Au, Ag, Ni, Sn, SS e molti altri metalli non ferromagnetici; più l'unità sorgente ionica,
migliorare efficacemente l'adesione della pellicola su diversi materiali di substrato grazie alle sue prestazioni di incisione al plasma e al processo PECVD per depositare alcuni strati a base di carbonio.
Struttura dell'apparecchiatura:
Orientazione verticale, struttura ottagonale, 2 porte aperte (davanti e dietro) per un facile accesso.
Caratteristiche dell'apparecchiatura:
Sistema rispettoso dell'ambiente, nessun rifiuto pericoloso
Alta integrazione, progettazione modulare
Commercializzazione e standardizzazione per la produzione di massa industriale
Fonte ionica estremamente efficiente per una forte adesione e elevata ionizzazione
Facile funzionamento: touch screen + controllo PLC, un'operazione a tocco
Con il software di Royal Technology, i parametri di processo possono essere programmati, salvati e riprodotti
Progettazione speciale del sistema Carousel per una deposizione altamente uniforme
Alta produttività e stabilità, lavorando 24 ore su 24, 7 giorni su 7
Flessibili, adatti a diverse dimensioni di piastre, per rivestimento a una o due facce
Performance del film di rivestimento PVD e PECVD:
Per migliorare la conduttività della superficie
Alta resistenza alla corrosione
Alta resistenza all'usura
Alta durezza
Film compositivo idrofobico e altri film funzionali
Disponibile per rivestimenti composti: film metallici e non metallici
Spessore della pellicola da 100 nm a 12 μm, tolleranza dello spessore ± 5%
Trattamento superficiale delle parti a bassa temperatura
Modello | RTcomunicazione | |||||||||
Materiale | Acciaio inossidabile (S304) | |||||||||
Dimensione della camera | Φ1250*1350 mm (H) | |||||||||
Tipo di camera | Struttura a due porte anteriore e posteriore, verticale | |||||||||
PACCHETTO UNICO di pompe | Pompa a vuoto a pistoni rotativi | |||||||||
Pompa a vuoto per radici | ||||||||||
Pompa molecolare a sospensione magnetica | ||||||||||
Pompa rotativa a ventole (pompa di tenuta) | ||||||||||
Tecnologia | Sputtering magnetronico, fonte ionica PECVD | |||||||||
Fornitura di energia elettrica | Fornitore di alimentazione per lo sputtering + Fornitore di alimentazione per il bias + Fonte ionica | |||||||||
FONTE di deposito | 2 coppie di catodi di sputtering DC/RF + (2 coppie di riserva utilizzando) + sorgente ionica | |||||||||
Controllo | PLC+Touch Screen | |||||||||
GAS | Misuratori di flusso di massa di gas (Ar, N2, C2H2, O2) Argon, azoto ed etiene, ossigeno | |||||||||
Sistema di sicurezza | Numerosi blocchi di sicurezza per proteggere operatori e attrezzature | |||||||||
RIFREDDIMENTO | Acqua di raffreddamento | |||||||||
Pulizia | Scarica di luce/sorgente ionica | |||||||||
Power Max. | 150 kW | |||||||||
Consumo medio di energia | 75 kW |
Si prega di contattarci per ulteriori specifiche, Royal Technology ha l'onore di fornire soluzioni complete di rivestimento.