Tecnologia Reale Multi950
——Macchina per deposizione sottovuoto PVD + PECVD
a macchina Multi950 è un sistema di deposizione sottovuoto multifunzionale personalizzato per ricerca e sviluppo.
Dopo intensi scambi con il team dell'Università di Shanghai guidato dal professor Chen, abbiamo finalmente confermato il design e la configurazione per soddisfare le loro applicazioni di ricerca e sviluppo.Questo sistema è in grado di depositare film DLC trasparente con processo PECVD, hard coating su utensili e film ottico con catodo sputtering.Sulla base di questo concetto di progettazione della macchina pilota, abbiamo successivamente sviluppato altri 3 sistemi di rivestimento:
1. Rivestimento a piastra bipolare per veicoli elettrici a celle a combustibile - FCEV1213
2. Rame placcato direttamente in ceramica - DPC1215
3. Sistema di sputtering flessibile - Sistema di placcatura in oro PCB in rame
Queste 3 macchine hanno tutte una camera ottagonale, che consente prestazioni flessibili e affidabili in varie applicazioni.Soddisfa i processi di rivestimento e richiede molti strati metallici diversi: Al, Cr, Cu, Au, Ag, Ni, Sn, SS e molti altri metalli non ferromagnetici.Inoltre, l'unità sorgente ionica migliora efficacemente l'adesione dei film su diversi materiali di substrato con le sue prestazioni di incisione al plasma e il processo PECVD per depositare alcuni strati a base di carbonio.
Il Multi950 è la pietra miliare dei sistemi di rivestimento dal design avanzato per Royal Technology.Grazie agli studenti dell'Università di Shanghai e al professor Yigang Chen che li ha guidati con la sua dedizione creativa e disinteressata, siamo riusciti a convertire le sue preziose informazioni in una macchina all'avanguardia.
Nell'anno 2018, abbiamo avuto un'altra collaborazione di progetto con il professor Chen,
la deposizione di materiale C-60 mediante il metodo di evaporazione termica induttiva.
Il signor Yimou Yang e il professor Chen sono stati fondamentali per questi progetti innovativi.
Vantaggi tecnici
Caratteristiche del progetto
1. Flessibilità: i catodi ad arco e sputtering, le flange di montaggio della sorgente ionica sono standardizzate per uno scambio flessibile
2. Versatilità: può depositare una varietà di metalli di base e leghe;rivestimenti ottici, rivestimenti duri, rivestimenti morbidi, film composti e film lubrificanti solidi su substrati di materiali metallici e non metallici
3. Design semplice: struttura a 2 porte, apertura anteriore e posteriore per una facile manutenzione
Specifiche tecniche
Modello: Multi-950
Camera di deposizione (mm)
Diametro x Altezza: φ950 x 1350
Sorgenti di deposizione: 1 coppia di catodi sputtering MF
1 paio di PECVD
8 set di catodi ad arco
1 sorgente di ioni lineare impostata
Zona di uniformità del plasma (mm): φ650 x H750
Carosello: 6 xφ300
Potenze (KW) Bias: 1 x 36
Potenza di sputtering MF (KW): 1 x 36
PECVD (KW): 1x36
Arco (KW): 8 x 5
Sorgente ionica (KW): 1 x 5
Sistema di controllo del gas MFC: 4 + 1
Sistema di riscaldamento: 18KW, fino a 500℃, con controllo PID della coppia termica
Valvola a saracinesca per alto vuoto: 2
Pompa turbomolecolare: 2 x 2000L/S
Pompa per radici: 1 x 300L/S
Pompa rotativa a palette: 1 x 90 m³/h + 1 x 48 m³/h
Impronta (L x P x A) mm: 3000 * 4000 * 3200
Potenza totale (KW): 150
Disposizione
Tempo di costruzione: 2015
Luogo: Università di Shanghai, Cina