TaN Ta2O5 Film ottici Sistema di deposizione da sputtering magnetronico, deposizione assistita da fascio ionico

Lo sputtering magnetronico è ampiamente utilizzato per depositare metalli refrattari come tantalio, titanio, tungsteno,niobio, che richiederebbe temperature di deposizione molto elevate, e metalli preziosi: oro e argento e che viene utilizzato anche per la deposizione di metalli a basso punto di fusione come rame, alluminio, nichel, cromo ecc.

Il tantalio è più utilizzato nell'elettronicaindustriacome rivestimento protettivo a causa della sua buona resistenza all'erosione.

Applicazioni della pellicola sottile di tantallo sputterato:
1. industria microelettronica in quanto i film possono essere sputterati in modo reattivo e quindi la resistività e il coefficiente di temperatura della resistenza possono essere controllati;

2. Strumenti medici come gli impianti corporei per la sua proprietà di alta biocompatibilità;
3. b. apparecchiature per il controllo delle emissioni di gas di scarico e di scarico;
4. Lo sputter di tantalio può essere utilizzato anche come barriera resistente alla corrosione se il rivestimento è continuo, difettoso e adesivo al substrato..

5Industria dei semiconduttori, microchip elettronici

Vantaggi tecnici

1. Si applica un carrello standardizzato che consente un facile e sicuro carico/scarico dei supporti del substrato e dei pezzi di lavoro nella/fuori dalla camera di deposizione
2. Il sistema è interconnesso per evitare un funzionamento improprio o pratiche pericolose
3. I riscaldatori di substrato sono forniti che montati nel centro della camera, termopare controllato PID per un'elevata precisione, per migliorare l'adesione del film di condensa
4. Forte configurazioni di pompe a vuoto con pompa molecolare a sospensione magnetica tramite valvola di cancello collegata alla camera; supportata con la pompa radicale di Leybold e la pompa a vele rotative a due stadi, pompa meccanica.
5. Con questo sistema viene applicata una fonte di plasma ionizzato ad alta energia per garantire l'uniformità e la densità.
   
   
   

Sistema di deposizione di sputtering di tantallo standardizzato di Royal Technology: RTSP1000

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