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| Marchio: | ROYAL |
| Numero di modello: | RTSP1200 |
| MOQ: | 1 insieme |
| prezzo: | negoziabile |
| Condizioni di pagamento: | L/C,T/T |
| Capacità di approvvigionamento: | 8 insiemi al mese |
Deposito di tantallo, Metalli preziosi in oro mediante sputtering
Lo sputtering è ampiamente utilizzato per depositare metalli refrattari come tantallo, titanio, tungsteno,niobio, che richiederebbe temperature di deposizione molto elevate, e metalli preziosi: oro e argento e che viene utilizzato anche per la deposizione di metalli a basso punto di fusione come rame, alluminio, nichel, cromo, ecc.
Il tantalio è più utilizzato nell'elettronica industriacome rivestimento protettivo a causa della sua buona resistenza all'erosione.
Le pellicole di tantalio sputter sono ampiamente utilizzate nella produzione di
1. industria microelettronica in quanto i film possono essere sputterati in modo reattivo e quindi la resistività e il coefficiente di temperatura della resistenza possono essere controllati;
2- Strumenti medici come impianti per la sua proprietà di biocompatibilità;
3. rivestimenti su parti resistenti alla corrosione, quali pozzi termici, corpi di valvole e elementi di fissaggio;
4.Il tantallo sputterato può essere utilizzato anche come barriera resistente alla corrosione se il rivestimento è continuo, difettoso e adesivo al substrato..
Tecnologia reale️Sistema di deposizione standardizzato di sputtering di tantallo: modello RTSP1000.
Proprietà della pellicola sputter di tantallo:
Bassa resistività
Rivestimenti di superficie resistenti alla corrosione e all'usura che sono sottoposti a forti tensioni e ad un ambiente chimico e erosivo duro.
Caratteristiche di progettazione:
Progettazione robusta, qualità stabile, ciclo veloce, sistema di alta precisione
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Configurazioni principali |
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Modello |
RTSP1000 |
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Tecnologia |
Sputtering magnetron DC + rivestimento ad arco catodico |
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Materiale della camera |
Acciaio inossidabile (S304) |
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Dimensione della camera |
Φ1000*1600 mm (H) |
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Tipo di camera |
Forma D, camera cilindrica |
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Sistema di rotazione del rack e del jig |
Guida satellitare o sistema di guida centrale |
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FONDITORI di energia |
Fornitore di alimentazione per lo sputtering a corrente continua: 2~4 serie Fonte ionica: 1 set |
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Materiale di deposito |
Ti/Cr/TiAl, Ta, Au, Ag, Cu ecc. |
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FONTE di deposito |
Catodi di sputazione piana + catodi ad arco circolare |
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Controllo |
PLC ((Controllore di logica programmabile) + Touch Screen |
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Sistema di pompa |
Pompa rotativa a furgone: SV300B - 1 set (Leybold) |
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Pompa per radici: WAU1001 - 1 set (Leybold) |
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Pompa di tenuta: D60C - 1 set (Leybold) |
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Pompa molecolare a sospensione magnetica: |
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Controller di flusso di massa del gas |
2canali: Ar e N2 |
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VACUUM GAUGE |
Inficon o Leybold |
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Sistema di sicurezza |
Numerosi blocchi di sicurezza per proteggere gli operatori e gli equipaggiatori |
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RISCALDO |
Scaldaie:20KW. Temp.: 450°C |
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RIFREDDIMENTO |
Chiller industriale (acqua fredda) |
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Power Max. |
100 kW (circa.) |
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Consumo medio di energia |
45 KW (circa) |
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Peso lordo |
T (circa) |
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Impronta di piedi |
(L*W*H) 4000*4000*3600 MM |
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Potenza elettrica |
AC 380V/3 fasi/50HZ / 5 linea |
Struttura dell'apparecchiatura:
Struttura del sistema di rivestimento: orientamento verticale, struttura ottagonale, 2 porte per un facile accesso.
Sistema ecologico, senza rifiuti pericolosi.
Integrazione totale, progettazione modulare
Commercializzazione e standardizzazione per la produzione di massa industriale
Una fonte di ioni estremamente efficiente per una forte adesione e elevata ionizzazione.
Facile funzionamento: touch screen + controllo PLC, un'operazione a tocco
Disegno speciale del sistema Carousel per un'elevata uniformità di deposizione.
Alta produttività e stabilità, lavorano 24 ore su 24, 7 giorni su 7.
Flessibili, adatti a varie dimensioni di piastre
Componenti chiave
Fonte ionica per processo di deposito assistito:
Sorgente ionica per il processo di plasma-itching:
La macchina RT1200-FCEV è un sistema di sputtering a serie che può depositare vari rivestimenti duri, rivestimenti molli,film composti e film lubrificanti solidi sui substrati di materiali metallici e non metalliciApplicato alle industrie dei veicoli a celle a combustibile a idrogeno, dei prodotti fotonici, dell'aerospaziale e di altre nuove industrie energetiche.
Performance dei film di deposizione:
Per migliorare la conduttività della superficie;
elevata resistenza alla corrosione;
elevata resistenza all'usura;
Alta durezza
Film compositivo idrofobico e altri film funzionali
Disponibile per rivestimenti composti: film metallici e non metallici.
Spessore della pellicola compreso tra 100 nm e 12 μm, tolleranza dello spessore ± 5%
Forte adesione.
Trattamento superficiale delle parti a bassa temperatura.
Tipo:
Orientazione verticale, struttura ottale, 2 porte (anteriore e posteriore)
Vantaggi di progettazione:
Il team di Royal Tech è onorato di offrirvi il nostro miglior servizio e conoscenze.
