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| Marchio: | ROYAL |
| Numero di modello: | RTSP |
| MOQ: | 1 set |
| Capacità di approvvigionamento: | 10 set al mese |
Tantalum PVD Sputtering Coating Machine, Tantalum films deposited by DC Magnetron Sputtering, PVD Tantalum Plating
Il tantallo è più ampiamente utilizzato nell'industria elettronica e come rivestimento protettivo in molte industrie a causa della sua buona resistenza all'erosione.
Le pellicole di tantalio sputter sono ampiamente utilizzate nella produzione di
1. industria microelettronica in quanto i film possono essere sputterati in modo reattivo e quindi la resistività e il coefficiente di temperatura della resistenza possono essere controllati;
2- Strumenti medici come impianti per la sua proprietà di biocompatibilità;
3. rivestimenti su parti resistenti alla corrosione, quali pozzi termici, corpi di valvole e elementi di fissaggio;
Il tantalo sputterato può essere utilizzato anche come barriera resistente alla corrosione se il rivestimento è continuo, difettoso e adesivo al substrato..
RTAS1000 Vantaggi tecnici
1. Plug-in Sistema di progettazione integrato per un'installazione rapida
2. Siemens PLC,CPU; con hardware per il controllo e il funzionamento di PC industriali
3Disponibile per monitoraggio e diagnosi a distanza.
4. flessibile, pronto per l'aggiornamento
5. catodi multipli per velocità di deposizione rapida
Altri vantaggi della macchina:
Progettazione robusta, qualità stabile, ciclo veloce, tempo di ciclo veloce, velocità di deposizione elevata
| Configurazioni principali | |
| Modello | RTAS1000 |
| Tecnologia | Sputtering magnetron DC + rivestimento ad arco catodico |
| Materiale della camera | Acciaio inossidabile (S304) |
| Dimensione della camera | Φ1000*1000 mm (H) |
| Tipo di camera | Forma D, camera cilindrica |
| Sistema di rotazione del rack e del jig | Guida satellitare o sistema di guida centrale |
| FONDITORI di energia | Fornitura di corrente di sputtering a corrente continua: 2 ~ 4 set Bias Fornitura di corrente: 1 set Arco Fornitura di corrente: 11 set |
| Materiale di deposito | Ti/Cr/TiAl, Ta, Au, Ag, Cu ecc. |
| FONTE di deposito |
Catodi di sputtering planare + catodi ad arco circolare Nota: è disponibile uno sputter DC cilindrico |
| Controllo | PLC ((controller logica programmabile) + touch screen (modelli di funzionamento manuale + automatico + semiautomatico) |
| Sistema di pompa | Pompa rotativa a ventole: SV300B - 1 set (Leybold) |
| Pompa per radici: WAU1001 - 1 set (Leybold) | |
| Pompa di tenuta: D60C - 1 set (Leybold) | |
| Pompa molecolare a sospensione magnetica: MAG2200 - 2 sest (Leybold) | |
| Controller di flusso di massa del gas | 4 canali, Made in China, Seven Star (serie CS, ) modello digitale (Ar, N2, O2, C2H2) |
| VACUUM GAUGE | Modello: ZDF-X-LE, Made in China |
| Sistema di sicurezza | Numerosi blocchi di sicurezza per proteggere gli operatori e gli equipaggiatori |
| RISCALDO | Scaldaie: 20 kW. Temperatura massima: 450°C |
| RIFREDDIMENTO | Chiller industriale (acqua fredda) |
| Power Max. | 100 kW (circa.) |
| Consumo medio di energia | 45 KW (circa) |
| Peso lordo | T (circa) |
| Impronta di piedi | (L*W*H) 4000*4000*3600 MM |
| Potenza elettrica | AC 380V/3 fasi/50HZ / 5 linea |
Catodi sputter cilindrici Catodi di sputazione piana
Si prega di contattarci per ulteriori specifiche, Royal Technology ha l'onore di fornire soluzioni complete di rivestimento.
Scaricare la brochure, cliccando qui:Sistema di deposizione da sputtering magnetronico.pdf
Applicazione del sistema di deposizione da sputtering magnetronico...
