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Marchio: | ROYAL |
Numero di modello: | RTAC1215-SP |
MOQ: | 1 set |
prezzo: | negoziabile |
Capacità di approvvigionamento: | 6 insiemi al mese |
Ni PVD Sputtering Coating Plant, Cr Vacuum Metallization System, Sn /Ag Vacuum Plating Equipment , Copper Plating Plant
Struttura dell'attrezzatura:
La macchina RTAC1215-SP è di tipo ottale, composta da pompe per vuoto, camera a vuoto che montava 8 catodi ad arco, 1 sorgente ionica lineare, 2 set di catodi per sputtering CC e 1 coppia di catodi per sputtering MF.Le flange montate su sorgente ionica e catodi sputtering sono standard che possono essere scambiate in modo flessibile in base alla richiesta effettiva del processo di rivestimento.
Applicazioni:
1. Industria DPC per parti di tenuta in ceramica, processo DPC, sistema di spruzzatura PVD in rame, chip ceramici LED con placcatura Cooper, Al2o3, Schede A Circuito In Ceramica AlN, Piastre Al2O3 Su LED, Semiconduttore
2. Film metallici in argento, Ni, cromo, oro, alluminio, In, Sn ecc. e TiN, TiAlN, TiC, TiO, CrC, CrCN, CrN ecc.
vantaggi:
1. Produzione efficiente in termini di costi
2. Umanizzazione della postazione di lavoro (design ergonomico della postazione di lavoro, minimizzazione degli ingombri, rumorosità e pericolo di incidenti)
3. Rendimento di alta qualità.
4. Forte adesione con potente dispositivo di riscaldamento e pulizia della sorgente di plasma;
5. Design compatto e con facile accesso per lavori di aggiornamento e manutenzione.
6. Completamente automazione, PLC + Touch Screen, sistema di controllo one-touch.
7. Alta efficienza con minor consumo energetico, max.Risparmio del 50% sui costi di produzione.
Specifiche tecniche:
1. Pressione del vuoto finale: migliore di 9,0 * 10-5Papà;
3. Tempo di svuotamento: da atm a 1.0×10-3Pa≤15 minuti (camera a temperatura ambiente, asciutta, pulita e vuota)
4. Sorgente di deposizione: catodi sputtering Gencoa magnetron, catodi ad arco orientato, sorgente ionica
5. Modello operativo: Completamente Automatico/Semi-Automatico/Manuale
6. Riscaldamento: da temperatura ambiente fino a max.500 ℃,
9. Sorgente ionica per il processo PECVD e PA PVD.
La macchina di rivestimento sottovuoto contiene il sistema completo chiave elencato di seguito:
1. Camera a vuoto
1.1 Dimensioni: diametro interno: 1200 mm
Altezza interna: 1500 mm
1.2 Materiale: camera a vuoto SUS304
Porta e flange SUS304
Struttura di rinforzo della camera: acciaio dolce SS41, con trattamento superficiale di finitura verniciata.
Chassis camera SS41 in acciaio dolce con trattamento superficiale di finitura verniciata.
1.3 Camera Shield: SUS304
1.4 Finestra di visualizzazione: 2 sulla porta
1.5 Valvola di sfiato della camera a vuoto (incluso silenziatore)
1.6 Porta: materiale SUS304
2. Sistema di pompaggio a vuoto per sgrossatura:
Pompa per vuoto rotativa olio a palette + Pompa di mantenimento
Pompa molecolare a sospensione magnetica - 2 set
4. Sistema di controllo e funzionamento elettrico- Sistema operativo PLC+ Touch Screen:
Fornitori:
PLC: Mitsubishi + Touch Screen (Made in China)
Componenti elettronici: SCHNEIDER,OMRON.
Sistema di protezione della sicurezza:Numerosi interblocchi di sicurezza a protezione degli operatori e delle apparecchiature (acqua, gas corrente, temperatura ecc.)
Sistema dei processi di rivestimento: Automazione e controllo dei processi.
4.1 Circuito principale: interruttore senza fusibile, interruttore elettromagnetico, tipo C/T in serie
4.2 Alimentazione: potenza di sputtering CC/MF + alimentazione ad arco CC + alimentazione di polarizzazione
4.3 Sistema di controllo del deposito
4.4 Sistema operativo: Touch Screen + PLC, controllo ricette e registrazione dati, spegnimento automatico, evacuazione automatica, rivestimento automatico
4.5 Sistema di misurazione
Pressione del vuoto: Manometro: Pirani + Manometro Penning + Vacuometro gamma completa -- marchio Europa
Dispositivo di misurazione della temperatura: termocoppia
MFC: regolatore di flusso di massa (4 vie),
4.6 Sistema di allarme: pressione dell'aria compressa, flusso dell'acqua di raffreddamento, malfunzionamento
4.7 Indicatore di carico di potenza: indicatore di tensione e indicatore di corrente di carico
5.Sistema di deposito
5.1 Sorgente di deposizione: catodi sputtering + sorgenti ad arco + sorgente ionica
5.2 Materiale di deposizione: rame, alluminio, cromo, argento, oro, SS, titanio ecc.
6.Sottosistema
6.1 Sistema di controllo della valvola ad aria compressa
6.2 Sistema dell'acqua di raffreddamento: tubo di flusso dell'acqua e sistema di valvole di commutazione
Aria compressa: 5~8kg/cm2
Acqua di raffreddamento: temperatura di ingresso dell'acqua: 20 ~ 25 ℃, 200 litri/min,
Pressione di ingresso dell'acqua: 2~3 kg/cm2,
Potenza: 3 fasi 380 V 50 Hz (60 Hz), 130 kVA, consumo energetico medio: 60 KW
Area di installazione: (L*W*H)4400*3200*2950mm
Scarico: Sfiato per pompe meccaniche
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