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| Marchio: | ROYAL |
| Numero di modello: | RTSP1000-IPG |
| MOQ: | set di 12 |
| prezzo: | negoziabile |
| Condizioni di pagamento: | L/C, D/A, D/P, T/T |
| Capacità di approvvigionamento: | 6 insiemi al mese |
Cassa orologioSistema di sputtering MF / impianto di rivestimento a vuoto per deposizione di grafite PVD
Sistema di sputtering MF per la custodia dell'orologioè una macchina integrata a molteplici fonti di deposizione per grafite generale, nero a getto, colore blu, ecc. Decorazioni su parti metalliche, oggetti in acciaio inossidabile.Utilizzato in particolare per prodotti di lusso di alta gamma come: elettronica: smartphone, fotocamera, computer portatile, golf, cucchiaio, forchetta, coltello, maniglia, rubinetti; gioielli di anelli, collane, orecchini, braccialetti, ecc.
Il sistema MF Sputtering ha molteplici fonti di deposizione:
Fonti di arco circolare diretto per l'evaporazione di bersagli metallici solidi;
2 coppie di catodi di sputtering MF non sbiancati per la deposizione di strati di grafite a film sottile;
Fornitore di alimentazione Bias per il bombardamento ionico per formare l'area plasmatica per il pretrattamento;
a. apparecchiature per la produzione di energia elettrica a combustibile liquido o a combustibile liquido;
Cryo-pompa (polifreddo) per la condensazione molecolare dell'acqua (facoltativo)
Che cos' è lo sputtering MF?
Rispetto allo sputtering a corrente continua e RF, lo sputtering a media frequenza è diventato la principale tecnica di sputtering a film sottile per la produzione di massa di rivestimenti,in particolare per la deposizione a pellicola di rivestimenti di pellicola dielettrici e non conduttori su superfici quali rivestimenti ottici, pannelli solari, strati multipli, pellicole di materiali compositi, ecc.
Sostituisce lo sputtering RF grazie al fatto che funziona con kHz piuttosto che MHz per un tasso di deposizione molto più veloce e può anche evitare l'avvelenamento del bersaglio durante la deposizione di film sottile composto come DC.
Gli obiettivi di sputtering MF sono sempre esistiti con due serie. Two cathodes are used with an AC current switched back and forth between them which cleans the target surface with each reversal to reduce the charge build up on dielectrics that leads to arcing which can spew droplets into the plasma and prevent uniform thin film growth--- which is what we called Target Poisoning.
Performance del sistema di sputtering MF
1Pressione di vuoto finale: superiore a 5,0 × 10-6Torr.
2Pressione di funzionamento sotto vuoto: 1,0 × 10-4Torr.
3. Tempo di pompaggio: da 1 atm a 1,0×10-4Torr≤ 3 minuti (temperatura ambiente, camera asciutta, pulita e vuota)
4Materiale metallizzante (sputtering + evaporazione da arco): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, ecc.
5- Modello di funzionamento: pieno automatico/semi-automatico/manuale
Struttura del sistema di sputtering MF
La macchina per il rivestimento a vuoto contiene il sistema completato di cui sotto:
1Camera di vuoto.
2. Sistema di pompaggio a vuoto di ruggine (pacchetto di pompe di ricambio)
3Sistema di pompaggio ad alto vuoto (pompa molecolare a sospensione magnetica)
4Sistema elettrico di controllo e di funzionamento
5Sistema di strutture ausiliarie (sotto-sistema)
6Sistema di deposizione: catodo di sputtering MF, alimentazione MF, fonte ionico di alimentazione Bias per opzionale
Le dimensioni del sistema di sputtering MF per la decorazione del grafite metallico:
Dimensioni interne della camera: diametro 1200 mm ~ 1600 mm
Altezza interna della camera: 1250 mm ~ 1300 mm
Sono disponibili anche dimensioni di macchina personalizzate in base alla domanda speculare di prodotti 3D.
Specificativi del sistema di sputtering MF RTAC1250-SPMF
| Modello | RTAC1250-SPMF | ||||||
| Tecnologia | Sputtering magnetron MF + rivestimento ionico | ||||||
| Materiale | Acciaio inossidabile (S304) | ||||||
| Dimensione della camera | Φ1250*H1250 mm | ||||||
| Tipo di camera | cilindro, verticale, a una porta | ||||||
| SISTEMA di spruzzo | Disegno esclusivamente per deposizione di film nero sottile | ||||||
| Materiale di deposito | Alluminio, argento, rame, cromo, acciaio inossidabile, Altri prodotti |
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| FONTE di deposito | 2 set di bersagli di sputtering cilindrico MF + 8 sorgenti di arco catodico diretto + sorgente ionica per opzionale | ||||||
| GAS | MFC- 4 modi, Ar, N2, O2, C2H2 | ||||||
| Controllo | PLC ((Controllore di logica programmabile) + | ||||||
| Sistema di pompa | SV300B - 1 set (Leybold) | ||||||
| WAU1001 - 1 set (Leybold) | |||||||
| D60T- 1 set (Leybold) | |||||||
| Pompe turbo molecolari: 2* F-400/3500 | |||||||
| Pre-trattamento | Fornitura di corrente di bias: 1*36 kW | ||||||
| Sistema di sicurezza | Numerosi blocchi di sicurezza per proteggere gli operatori | ||||||
| RIFREDDIMENTO | Acqua fredda | ||||||
| Potenza elettrica | 480V/3 fasi/60HZ (conforme agli Stati Uniti) | ||||||
| 460V/3 fasi/50HZ (conforme all'Asia) | |||||||
| 380V/3 fasi/50HZ (conforme all'UE-CE) | |||||||
| Impronta di piedi | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
| Peso totale | 7.0 T | ||||||
| Impronta di piedi | (L*W*H) 5000*4000*4000 MM | ||||||
| Tempo di ciclo | 30 ~ 40 minuti (a seconda del materiale del substrato, geometria del substrato e condizioni ambientali) |
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| Power Max... | 155 KW | ||||||
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Potenza media |
75 kW |
Si prega di contattarci per ulteriori specifiche, Royal Technology ha l'onore di fornire soluzioni complete di rivestimento.
