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Dettagli dei prodotti

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Macchina di rivestimento di vuoto di PVD
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Tantalum ((Ta) Magnetron Sputtering Deposition System-RT1000-Ta

Tantalum ((Ta) Magnetron Sputtering Deposition System-RT1000-Ta

Marchio: ROYAL
Numero di modello: RT1100
MOQ: 1 insieme
prezzo: negoziabile
Condizioni di pagamento: L/C,T/T
Capacità di approvvigionamento: 5 insiemi al mese
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
FATTO IN CINA
Certificazione:
CE
Nome:
Macchina di deposizione per lo sputtering PVD di tantallo
Rivestimenti:
Tantal, oro, argento ecc.
Tecnologia:
Sputtering DC a impulsi
Applicazione:
Industria microelettronica, strumenti medici, rivestimenti su parti resistenti alla corrosione,
Proprietà del film:
Il tantallo è più utilizzato nell'industria elettronica come rivestimento protettivo a causa della s
Localizzazione della fabbrica:
Città di Shanghai, Cina
Servizio mondiale:
La Polonia - Europa; L'Iran Asia ad ovest & Medio Oriente, Turchia, India, Messico Sudamerica
Servizio formazione:
Lavori l'operazione a macchina, la manutenzione, le ricette di processo di rivestimento, programma
Garanzia:
Garanzia limitata 1 anno gratis, intera vita per la macchina
OEM e ODM:
disponibili, sosteniamo la progettazione ed il montaggio su misura
Imballaggi particolari:
Norma dell'esportazione, essere imballato nei nuovi casi/cartoni, in adatti ad oceano/aria interurba
Capacità di alimentazione:
5 insiemi al mese
Evidenziare:

vacuum coating plant

,

high vacuum coating machine

Descrizione del prodotto

Lo sputtering magnetronico è ampiamente utilizzato per depositare metalli refrattari come tantalio, titanio, tungsteno,niobio, che richiederebbe temperature di deposizione molto elevate, e metalli preziosi: oro e argento e che viene utilizzato anche per la deposizione di metalli a basso punto di fusione come rame, alluminio, nichel, cromo ecc.

Il tantalio è più utilizzato nell'elettronicaindustriacome rivestimento protettivo a causa della sua buona resistenza all'erosione.

Applicazioni della pellicola sottile di tantallo sputterato:
1. industria microelettronica in quanto i film possono essere sputterati in modo reattivo e quindi la resistività e il coefficiente di temperatura della resistenza possono essere controllati;

  1. Strumenti medici come gli impianti corporei per la sua proprietà di alta biocompatibilità;
  2. b. apparecchiature per il controllo delle emissioni di gas di scarico e di scarico;
  3. Il tantalo sputterato può essere utilizzato anche come barriera resistente alla corrosione se il rivestimento è continuo, difettoso e adesivo al substrato..

Tantalum ((Ta) Magnetron Sputtering Deposition System-RT1000-Ta 0Tantalum ((Ta) Magnetron Sputtering Deposition System-RT1000-Ta 1


Vantaggi tecnici

  1. Si applica un carrello standardizzato che consente un facile e sicuro carico/scarico dei supporti per il substrato e dei pezzi di lavoro nella/fuori dalla camera di deposizione
  2. Il sistema è interconnesso per evitare un funzionamento improprio o pratiche pericolose
  3. I riscaldatori di substrato sono forniti che montati nel centro della camera, termopare controllato PID per un'elevata precisione, per migliorare l'adesione del film di condensa
  4. Forte configurazione di pompe a vuoto con pompa molecolare a sospensione magnetica tramite valvola di cancello collegata alla camera; supportata con la pompa radicale di Leybold e la pompa a vele rotative a due fasi, pompa meccanica.
  5. Con questo sistema viene applicata una fonte di plasma ionizzato ad alta energia per garantire l'uniformità e la densità.


    Tantalum ((Ta) Magnetron Sputtering Deposition System-RT1000-Ta 2Tantalum ((Ta) Magnetron Sputtering Deposition System-RT1000-Ta 3


Il sistema di deposizione standardizzato di sputtering di tantallo della Royal Technology:

Configurazioni principali
Modello RT1101
Tecnologia

Sputtering magnetron DC pulsato

Arco catodico (in opzione, determinato dal processo di rivestimento)

Materiale della camera Acciaio inossidabile (S304)
Dimensione della camera Φ1000*1000 mm (H)
Tipo di camera Forma D, camera cilindrica
Sistema di rotazione del rack e del jig Guida satellitare o sistema di guida centrale
FONDITORI di energia

Fornitore di alimentazione per lo sputtering a corrente continua: 2~4 serie
Bias Fornitura di alimentazione: 1 set

Fonte ionica: 1 set

Materiale di deposito Ta, Ti/Cr/TiAl, Au, Ag, Cu ecc.
FONTE di deposito Catodi di sputtering planare + catodi ad arco circolare
Controllo PLC ((Controllore di logica programmabile) + IPC
(modelli di funzionamento manuale + automatico + semiautomatico)
Sistema di pompa Pompa rotativa a furgone: SV300B 1 set (Leybold)
Pompa per radici: WAU1001 1 set (Leybold)
Pompa di tenuta: D60C 1 set (Leybold)
Pompa molecolare a sospensione magnetica:
MAG2200 2 sest (Leybold)
Controller di flusso di massa del gas 2 canali: Ar e N2
VACUUM GAUGE Inficon o Leybold
Sistema di sicurezza Numerosi blocchi di sicurezza per proteggere gli operatori e gli equipaggiatori
RISCALDO Scaldaie: 20 kW. Temperatura massima: 450°C
RIFREDDIMENTO Chiller industriale (acqua fredda)
Power Max. 100 kW (circa.)
Consumo medio di energia 45 KW (circa)
Peso lordo T (circa)
Impronta di piedi (L*W*H) 4000*4000*3600 MM
Potenza elettrica

AC 380V/3 fasi/50HZ / 5 linea


Insite:

Tempo di costruzione: 2018

Località: Cina

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