Disegno della macchina R2R
Le caratteristiche del metallizzatore a vuoto in alluminio RT-R2R supportano una serie di funzionalità che lo rendono la scelta ideale per qualsiasi officina industriale.
In primo luogo, ha un elevato tasso di trasmissione che contribuisce a ridurre i costi di produzione.il suo processo di free-span elimina la necessità di una linea di tamburo e rivestimento bordoQuesto lo rende particolarmente adatto ai substrati a bassa tensione come CPP, BOPP e LDPE.
Inoltre, è dotato di singoli alimentatori di fili che lo rendono molto facile da usare.Infine..., il design compatto occupa uno spazio minimo per una facile installazione.
| Il MultiWeb Coater offre le seguenti caratteristiche chiave: | ||||||||
| A. Una camera suddivisa in zone a più pressioni per accogliere varie fonti di deposizione. | ||||||||
| B. capacità di deposizione simultanea da più sorgenti in un solo passaggio di rete, per rivestimento a più strati. | ||||||||
| C. La direzione di avvolgimento della rete reversibile consente la deposizione di strati illimitati senza rompere il vuoto. | ||||||||
| D. Meccanismi di manipolazione della rete di precisione con guida di bordo per consentire più passaggi senza perdita di allineamento (facoltativo) | ||||||||
| E. Sistema di azionamento inverso della rete per il controllo accurato di più velocità della rete. | ||||||||
| F. sistemi di monitoraggio dell'espessore ottico e/o della resistenza in linea, per controllare con precisione lo spessore e l'uniformità della deposizione (facoltativo) | ||||||||
| G. La camera è costruita in SUS304L inossidabile con componenti a bassa emissione di gas per assicurare un vuoto più profondo. | ||||||||
| H. pompaggio a vuoto mediante una combinazione di pompa turbo-molecolare e criogenica a bassa temperatura, per fornire un vuoto pulito senza umidità o contaminazione da olio. | ||||||||
| Film di deposito | ||||||||
| 1Materiale di substrato: PET, PEN, PES, PI, PC, PA, TAC... | ||||||||
| 2Spessore del substrato: 15~300 μm | ||||||||
| 3Metodi di deposizione: AC Reattivo per SiO2 ((Dielettrico); DC pulsato per ITO (Metallo e conduttore) | ||||||||
| 4Conduttore di ossido TCO: ITO, AZO, IZO... | ||||||||
| 5Conduttore metallico: Al, Cu, Mo, Ag... | ||||||||
| 6. film ottico: Ta2O5, Nb2O5, SiO2, TiO2... | ||||||||
| 7Semiconduttore: ZnO, InGaZnO... | ||||||||
| 8Isolatore: SiO2, SiNx, AlOx, AlNx... | ||||||||
| 9Uniformità: ± 5% su tutta la rete | ||||||||
| Specificativi generali | ||||||||
| Corpo della camera a vuoto: zone a pressione multipla a camera singola | ||||||||
| Carrozze mobili: Carrozze web | ||||||||
| Zona di deposizione: 2 X zona di sputtering (facoltativo: 3 zona di sputtering) | ||||||||
| Fonte di sputtering: 2 X Fonte di sputter a doppio catodo (opzionale: 3 Fonte di sputter a doppio catodo) | ||||||||
| Pre-trattatore di substrato: sorgente ionica lineare | ||||||||
| Larghezza della rete: 1300 mm | ||||||||
| Diametro di avvolgimento: Φ600 mm Max | ||||||||
| Direzione di avvolgimento: bi-direzionale | ||||||||
| Spessore del substrato: 15 ~ 300 μm | ||||||||
| Velocità della linea Web:0.5~10M/min | ||||||||
| Tensione della rete: 5,0PLI Max 0,5PLI Min | ||||||||
| Allineamento della rete: ±3 mm (uno passaggio) | ||||||||
| Pompa ad alto vuoto: pompa turbo | ||||||||
| Pompa a vuoto grezzo: combinazione di pompa a secco e soffiatore | ||||||||
| Pompa di umidità: policoldo criogeno | ||||||||
| Controllo dello spessore della deposizione: monitoraggio (facoltativo) | ||||||||
| a: Trasmissione ottica; b: Resistenza alla corrente di Eddy | ||||||||
| Funzionamento del sistema: funzionamento del sistema informatico basato su PLC | ||||||||
| Camera di vuoto | ||||||||
| La camera a vuoto è costruita come una scatola orizzontale in acciaio inossidabile lucidato SUS304L, con aperture a fianco.La sezione inferiore della zona divisa contiene la fonte di deposizione con accessori, mentre la sezione superiore ospiterà il carrello della rete. | ||||||||
| Costruzione della camera: scatola orizzontale con un'apertura a fianco | ||||||||
| Struttura della camera: zona multipressione a camera singola | ||||||||
| Cornice della camera: SS41 Acciaio leggero, verniciato | ||||||||
| Materiale della camera: SUS304L Acciaio inossidabile lucidato | ||||||||
| Distribuzione della zona di pressione: piastra di alluminio | ||||||||
| Visualizza il materiale di porto: policarbonato | ||||||||
| Zone di pressione a vuoto: 4 (una zona di avvolgimento, due zone di deposizione, una zona tampone) |
Il processo di metallizzazione a vuoto R2R (Roll-to-Roll) prevede il deposito di uno strato sottile di metallo, in genere alluminio, su un substrato flessibile in modo continuo roll-to-roll.Ecco le fasi chiave del processo:
1.Sgombero del substrato: Il processo inizia con un rotolamento del materiale di substrato flessibile, che viene svolto e inserito nella macchina di metallizzazione.
2.Pulizia e pretrattamento: il substrato può passare attraverso una sezione di pulizia per rimuovere eventuali contaminanti superficiali che potrebbero influenzare l'adesione del rivestimento metallico.il substrato può essere sottoposto a processi di pretrattamento come il trattamento corona o l'applicazione di una prima per migliorare il legame tra il substrato e lo strato metallico.
3.Camera di metallizzazione: Il cuore dell'apparecchiatura di metallizzazione a vuoto R2R è la camera di metallizzazione. Il substrato entra nella camera, che viene mantenuta ad alto vuoto.La camera è costituita in genere da una serie di fonti di evaporazione o catodi, che contengono il metallo (come l'alluminio) da depositare.
4.Evaporazione dei metalli: il metallo all'interno delle fonti di evaporazione viene riscaldato al suo punto di evaporazione.Gli atomi di metallo vaporizzati viaggiano in linea retta e si condensa sul substrato in movimento, formando uno strato metallico sottile e uniforme.
5.raffreddamento del substrato: Dopo il processo di metallizzazione, il substrato rivestito passa attraverso una sezione di raffreddamento, dove lo strato metallico si solidifica e si stabilizza.
6.Rivestimento del substratoInfine, il substrato metallizzato viene avvolto su un rotolo, pronto per un'ulteriore lavorazione o utilizzazione in varie applicazioni.
Vale la pena notare che i dettagli specifici e i parametri del processo di metallizzazione a vuoto R2R web possono variare a seconda di fattori come il rivestimento metallico desiderato, il materiale del substrato,e applicazione previstaIl processo può essere ottimizzato per controllare fattori quali lo spessore del rivestimento, l'adesione e l'uniformità per soddisfare requisiti specifici.
La metallizzazione a vuoto R2R offre vantaggi quali elevate velocità di produzione, controllo preciso dello spessore del rivestimento, eccellente adesione e la possibilità di elaborare una vasta gamma di substrati flessibili,rendendola una tecnica versatile e ampiamente utilizzata in settori come l'imballaggio, l'elettronica, l'automotive e altri.
Distribuzione dei catodi di sputtering
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