Tantalio del carbonio di tum di DLC-C che farfuglia il sistema di deposito

Farfugliare del magnetron è ampiamente usato depositare i metalli refrattari come tantalio, il titanio, il tungsteno, il niobio, che richiederebbero le temperature elevate stesse del deposito ed i metalli preziosi: L'oro e l'argento e quale inoltre è usato per il deposito dei metalli più con una bassa temperatura di fusione dei punti come rame, alluminio, nichel, cromo ecc.

Il tantalio più è utilizzato nell'industria elettronica come rivestimento protettivo a causa della sua buona resistenza ad erosione.

Applicazioni del film sottile del tantalio Sputtered:
1. l'industria della microelettronica mentre i film possono essere farfugliati reattivo e così il coefficiente di temperatura e di resistività della resistenza possono essere controllati;

2. Strumenti medici come gli impianti del corpo per la sua altamente proprietà di biocompatability;
3. Rivestimenti sulle parti resistenti alla corrosione, quali i thermowells, i corpi di valvola ed i fermi;
4. Il tantalio farfugliato può dovere anche essere usato come efficace barriera di resistenza della corrosione se il rivestimento è continuo, disertata ed è aderente al substrato è inteso proteggere.

Vantaggi tecnici

1. Un carrello standardizzato si applica che permette il caricamento facile e sicuro/lo scarico dei supporti del substrato e dei pezzi da lavorare dentro dalla camera del deposito
2. Il sistema è sicurezza interruttore per impedire l'operazione sbagliata o le pratiche pericolose
3. I radiatori del substrato sono forniti che hanno montato nel centro della camera, PID hanno controllato la termocoppia per alta precisione, per migliorare per condensare l'adesione del film
4. Forte pulsometro magneticamente le configurazioni con la pompa molecolare della sospensione tramite valvola a saracinesca collegata alla camera; di appoggio con le radici di Leybold pompi e pompa a palette rotatoria a due fasi, pompa meccanica.
5. La fonte del plasma ionizzata alta energia si applica con questo sistema per garantire l'uniformità e la densità.
   
   
   

Il tantalio standardizzato della tecnologia reale che farfuglia il sistema di deposito: RTSP1000

Insite:

Tempo sviluppato: 2018

Posizione: La Cina

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