Rame/alluminio/carbonio che farfuglia attrezzatura, magnetron di alto vuoto che farfuglia il sistema di deposito
UHV che farfuglia il sistema del deposito utilizza i catodi farfugliare come le fonti del deposito di PVD. Comibled sempre il MF farfuglia e la CC farfuglia per le applicazioni indstrial del rivestimento di PVD. Sulla base degli obiettivi differenti e del farfugliare le richieste della velocità del deposito, la tecnologia reale fornisce cylidrical farfuglia e planare farfugli i catodi, pricipalmente affinchè i tassi di deposito veloci soddisfacciano la richiesta del rivestimento di produzione industriale.
Il magnetron di alto vuoto che farfuglia il sistema del deposito è progettato per rame, il alumunium, la plastica, placcatura conduttiva di strato del film del circuito del metallo. Può condensare il film sottile nano sui substrati. Eccetto AG che farfuglia, può anche depositare il Ni, l'Au, l'AG, Al, il Cr, obiettivi dell'acciaio inossidabile.
Può alti film dell'uniformità del deposite sui vari substrati: il panle di plastica, il panle del PC, lo strato di alluminio, gli strati ceramici, Al2O3 ceramico, AlN, silicio riveste ecc.
RTSP1215 che farfuglia la disposizione dell'attrezzatura del rivestimento
Serie di RTSP che farfuglia le applicazioni dell'attrezzatura del rivestimento:
1. Disponibile sui substrati di: Strati di vetro e ceramici della plastica, del polimero, acciaio inossidabile, strato di rame, bordo di alluminio ecc.
2. Per generare il film nano gradisca: Latta, tic, TiCN, Cr, CrC, CrN, Cu, AG, Au, Ni, Al ecc.
Serie di RT-SP che farfuglia le caratteristiche del progetto dell'attrezzatura del rivestimento:
1. Progettazione robusta, buona per lo spazio limitato della stanza
2. Accesso facile per manutenzione e la riparazione
3. Sistema di pompaggio veloce per alto rendimento
4. La recinzione elettrica standard del CE, norma dell'UL è inoltre disponibile.
5. Esecuzione accurata di montaggio
6. Funzionamento stabile per garantire produzione cinematografica di alta qualità.
La fonte di ione è originale dalla società di Gencoa, le proprietà:
1. Campi magnetici ottimizzati per produrre un fascio collimato del plasma alle pressioni standard farfugliare
2. Regolamento automatizzato affinchè il gas mantengano corrente & tensione costanti – controllo dell'auto del multi-gas
3. Anodo e catodo della grafite per proteggere il substrato da contaminazione e per fornire le componenti di lunga vita
4. Isolamento elettrico standard di rf su tutte le fonti di ione
5. Raffreddamento indiretto dell'anodo e del catodo – commutazione rapida delle parti
6. Commutazione facile delle parti del catodo per fornire le trappole magnetiche multiple per l'operazione a voltaggio inferiore, o un fascio messo a fuoco
7. La tensione ha regolato l'alimentazione elettrica con risposte di adeguamento del gas per mantenere sempre la stessa corrente
Magnetron di alto vuoto che farfuglia le caratteristiche tecniche del sistema di deposito:
| MODELLO | RT1215-SP |
| MATERIALE | Acciaio inossidabile (S304) |
| DIMENSIONE DELLA CAMERA | Φ1200*1500mm (H) |
| TIPO DELLA CAMERA | struttura 1-door, verticale |
| SINGOLO PACCHETTO DELLA POMPA | Pompa rotatoria di VaneVacuum |
| Pulsometro di radici | |
| Pompa molecolare della sospensione magnetica | |
| Pulsometro rotatorio a due stadi della pala | |
| TECNOLOGIA | Magnetron che farfuglia, fonte di MF di ione lineare |
| ALIMENTAZIONE ELETTRICA | Farfugliando l'alimentazione elettrica + alimentazione elettrica + fonte di ione diagonali |
| FONTE DI DEPOSITO | 4 paia di MF che farfuglia i catodi + la fonte di ione + la CC farfuglia |
| CONTROLLO | Schermo di PLC+Touch |
| GAS | Misuratori di massa del gas (AR, N2, C2H2, O2) l'argon, azoto e Ethyne, ossigeno |
| SISTEMA DI SICUREZZA | Numerosi interruttori di sicurezza per proteggere gli operatori ed attrezzature |
| RAFFREDDAMENTO | Acqua di raffreddamento |
| PULIZIA | Scarico di incandescenza/fonte di ione |
| MASSIMO DI POTERE. | 120KW |
| CONSUMO DI ENERGIA MEDIO | 70KW |
