August 10, 2018
------------------- L'articolo è da Donald M. Mattox
Lo ione che placca (IP) è un processo fisico di (PVD) di applicazione a spruzzo che a volte è chiamato il deposito assistito ione (IAD) o applicazione a spruzzo (IVD) dello ione ed è una versione del deposito di vuoto. La placcatura dello ione usa il bombardamento concorrente o periodico del substrato e deposita il film dalle particelle energetiche atomico di taglia. Il bombardamento prima del deposito è usato per farfugliare pulito la superficie del substrato. Durante il deposito il bombardamento è usato per modificare e controllare le proprietà del film di deposito. È importante che il bombardamento è continuo fra la pulizia e le parti del deposito del processo mantenere un'interfaccia atomico pulita.
In ione che placca l'energia, il cambiamento continuo e la massa delle specie di bombardamento con il rapporto delle particelle di bombardamento alle particelle di deposito sono variabili di elaborazione importanti. Il materiale di deposito può essere vaporizzato evaporazione, farfugliando (farfugliare diagonale), la vaporizzazione dell'arco o dalla decomposizione di un'applicazione a spruzzo chimica (CVD) del precursore chimico del vapore. Le particelle energetiche usate per il bombardamento sono solitamente ioni di un gas inerte o reattivo, o, in alcuni casi, degli ioni del materiale di condensazione del film («ioni del film "). La placcatura dello ione può essere fatta in un ambiente del plasma in cui gli ioni per il bombardamento sono estratti dal plasma o può essere fatto in un ambiente di vuoto in cui gli ioni per il bombardamento sono formati in una pistola di ione separata. La configurazione posteriore di placcatura dello ione spesso è chiamata il deposito assistito raggio ionico (IBAD). Utilizzando un gas o un vapore reattivo nel plasma, i film dei materiali composti possono essere depositati.
La placcatura dello ione è usata per depositare i rivestimenti duri dei materiali composti sugli strumenti, sui rivestimenti dei metalli aderenti, sui rivestimenti ottici con le alte densità e sui rivestimenti conformi sulle superfici complesse.
La tecnologia reale di Shanghai ha sviluppato la metallizzazione sotto vuoto standardizzata serie di parecchi PVD automatizzata la tecnica di placcatura dello ione, applicata estesamente con i vari rivestimenti decorativi ed i film funzionali come: rivestimenti duri, proprietà d'uso del graffio e di corrosione, alta conduzione e rivestimenti riflettenti.
Queste macchine hanno fornito il dispositivo di bombardamento dello ione per pretrattamento di pulizia del plasma, presentano nel gas del iner come l'AR, H2 a acritive la superficie del substrato, approvano l'adesione fra il substrato ed i film di depostion.
Lo strato legante è richiesto a volte per il substrato speciale. La tecnologia reale che tende fornisce le soluzioni chiavi in mano totali del rivestimento per ogni utilizzatore finale.
Magnetron che farfuglia il sistema di deposito di vuoto
Multi macchina di rivestimento di vuoto dell'arco
Multi arco + magnetron che farfuglia l'attrezzatura del rivestimento
Consultici oggi per trovare le migliori soluzioni del rivestimento per i vostri prodotti.
